宜鼎發表全球首支寬溫DRAM 2666記憶體 智慧應用 影音
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宜鼎發表全球首支寬溫DRAM 2666記憶體

  • 李佳玲台北

宜鼎(Innodisk)發表全球首支超高速寬溫DDR4 2666搶搭智能化邊緣運算商機,業界唯一全面抗硫標準化,定義工控進階典範。
宜鼎(Innodisk)發表全球首支超高速寬溫DDR4 2666搶搭智能化邊緣運算商機,業界唯一全面抗硫標準化,定義工控進階典範。

看好工業物聯網(IIoT)、閘道器(Gateway)、邊緣運算(Edge Computing)等全球應用市場在智能化設備需求上的成長力道,全球工控領導品牌宜鼎國際(Innodisk),日前正式發表全球首款DDR4 2666寬溫工控儲存記憶體,以2666MT/s的超高速運算,搭載工業級寬溫(-40oC至85oC),承接來自全球市場的龐大需求。

此外,面對日益嚴重的硫化污染,自2018年6月起,宜鼎宣布將於DDR4標準品規格中全面導入抗硫化技術,相較於目前業界普遍以客製方式提供抗硫加值服務,宜鼎此舉除正面推動全球產業升級外,也為全球工控儲存產業再度訂下難以跨越的「進階級工控」門檻標準。

宜鼎全球首推寬溫DRAM 2666記憶體

隨著工業物聯網與設備智能化擴大應用,為了強調即時效率,未來在元件傳遞數據的瞬間,就必須開始進行邊緣運算,進而大幅縮減資料流量,減低雲端運算負荷。宜鼎新發表的全球首款超高速寬溫DDR4 SODIMM,具備2666MT/s高速運算與工業級寬溫規格雙重產品優勢,無懼溫差變化與硫化汙染等多重環境限制,特別符合閘道器、邊緣運算伺服器等智能化設備的垂直市場需求,目前已成功獲得國際伺服器品牌大廠訂單,並持續強攻工業物聯網應用。

硫化威脅無所不在 宜鼎推抗硫全面標準化

工業環境中的硫化物質將使DRAM模組引發化學作用而產生硫化銀,並降低傳導導致模組無法正常運作。過去工控儲存的抗硫化技術常被視為客製化的加值服務之一,然而宜鼎團隊發現,環境中的硫化威脅其實無所不在,不僅石化、礦採、能源發展等特定產業需要導入抗硫化設備,即使一般工廠中也經常潛藏著硫化物威脅,舉凡大型機械中經常使用的機油、橡膠墊圈、輪帶、金屬銅釦等都是環境中的硫化來源之一,且其硫化影響常容易被眾人忽略。因此,自2018年6月起,宜鼎主動於全系列DDR4產品中無償導入抗硫化技術,使其成為標準品規格之一。

宜鼎國際DRAM事業處副總張偉民表示,「過去工控領域由於產品導入期長,從市場端需求到回應期至少一年。而身為全球工控領導品牌,宜鼎認為,未來的工控廠商應具備洞悉產業趨勢的能力,從回應需求的被動態度進階至主動領導的角色,在需求出現之前就準備好解決方案,提升自我價值至進階工控的層級。也因此,宜鼎本次主動將抗硫化技術提升為基本規格,並以超乎業界期待之姿,持續坐穩全球工控市佔。」


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