10奈米製程電源管理應考慮解決方案的完整性
- 劉慧蘭／綜合報導
電流密度正逐漸成為10奈米及以下製程的頭大問題，不僅增加了需併入晶片的電源管理量，更導致設計成本增加並拉長產品上市時間。自90奈米製程開始，每單位面積的電流就不斷增加，迫使設計團隊利用動態電壓和頻率縮放、基板偏壓、多電源區塊和暗矽(dark silicon)等策略將...
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