先進製程微縮面臨考驗 7奈米以下挑戰多
- 楊智家／綜合報導
全球半導體業界跟隨摩爾定律(Moore’s Law)進程腳步發展至今，逐漸進入微縮至10奈米及7奈米製程技術階段，多年來雖然業界期盼極紫外光(EUV)微影技術能夠推出以解決未來微縮面臨的技術挑戰，不過未來7奈米以下微縮進程在面臨的技術課題增加、成本不斷飆升、加上...
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