汎銓科技獲國家磐石獎並發展出檢測EUV光阻缺陷技術

汎銓科技於2018年榮獲獲國家磐石獎。汎銓科技提供半導體先進製程與各種複合材料之材料分析服務，面對半導體製程微縮的趨勢，材料分析的難度及挑戰越來越高；汎銓科技透過多年來的技術累積、專業及高效能服務品質，在半導體先進製程材料分析領域有其一席之地；不論是儀器設備的妥善度、分析工法的研發能力、產量產能效率、客戶資料保全、工程人員的穩定度，汎銓科技都居相當實力。

汎銓科技擁有自己的設備工程團隊，團隊成員平均年資超過10年以上，使得汎銓儀器設備的妥善度精確度遠高。隨著半導體製程微縮技術不斷演進，TEM試片製備厚度是TEM分析能力的重要指標，汎銓不單具有超薄5nm奈米TEM試片製備能力，還有多項技術，像是如何使低介電材料(Low-k)，不因電子束的照射導致縮小、變形。

一般分析者不外乎減少電子束照射能量與提升樣品強度兩樣方式，而汎銓科技研發團隊在這兩方面都有獨到技術，其低介質材料的收縮比例已相當良好；再者，極紫外光(EUV)微影技術是5奈米3奈米製程繼續的關鍵技術，目前世界各國大廠都面臨極大的困難，主因是難以克服曝光光阻時產生的物理性及化學性變化引發的缺陷。

EUV光阻缺陷可藉由TEM進行形貌及成分分析，但樣品製備難度極高，TEM樣品必須維持原貌不變形才能分析缺陷真因。汎銓科技已發展出一套檢測光阻缺陷的技術，能在保持光阻材料原貌情況下，分析曝光缺陷和製程問題，藉此幫助半導體廠改良製程。

此外，汎銓科技自我研發出智慧e系統進行分析案件的排程作業，客戶也可以透過電腦甚至是手機24小時隨時掌握委託案件的進度及交期；客戶資安保全更是汎銓科技極度重視的議題，汎銓分析工法、客戶的資料機密保護都提升至「國安」等級，高度防堵機密資料外洩，提供客戶安心、安全且完善的材料分析服務。

人員穩定度高更是汎銓能持續的關鍵，汎銓科技董事長柳紀綸認為員工是合作夥伴，14以人為本，制定善待同仁的福利政策，吸引各方人才慕名而來，極低離職率使得一路以來艱辛研發的各項分析技術得以保留傳承，並且更加精進。