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Aerotech於2019半導體展展出高精度運動控制平台與系統

Aerotech於2019半導體展展出高精度運動控制平台與系統

由於半導體產業對於製程極限的推展,從前段製程至後段封測,設備商無不專心致力於提升半導體製程設備之效能與產能。本次半導體展中,Aerotech展出四大主軸:第一為光通訊運動控制技術,第二為氣浮軸承移動平台與自動對焦演算法,第三為超精密XY平台搭配3D量測模組,最後為壓電奈米移動平台。四大主軸的核心,在於Aerotech針對製程設備開發的精度推展,以及產能需求。

Aerotech為半導體製程用運動系統供應商,其運動控制與定位平台系統可被用於各道製程應用上,包含晶圓檢測,瑕疵檢測與偵測,白光干涉,先進封裝,與各式各樣先進製程應用上。

於最嚴苛的半導體製程如微影製程中,通常晶圓平台具有最極端的規格需求。Aerotech的ABL1500氣浮軸承定位平台在半導體製程中被廣泛使用,尤其需要極高平面度與極高動態精度的需求時,其特性會有助於製程良率改善。本次半導體展中,Aerotech更將此平台與高精度雷射位移計整合,進行自動對焦演算法的展示。

在許多精密量測與白光干涉,與其他3D量測的應用中,精密的XY平台並且具備2D定位精度的需求相當廣泛,Aerotech的PlanarDL系列是在這些量測應用中常被使用到的精密XY平台,具有精密幾何效能和微米級直線度的開孔式平台。PlanarDL平台包括高精度交叉滾柱軸承、精密加工表面,和通過剛性中心軸線驅動的非接觸式線性馬達。這些特點使其直線度達到±0.4µm,平面度達到±1µm,適用於各種精密量測製程。

製程微縮化是半導體產業永不停歇的目標,摩爾定律推展的特徵尺寸如今已經低於5nm節點,設備商對於如何製作出微縮化的電路,如何檢測這些電路與特徵,並且如何封裝這些晶圓,其面臨的挑戰遠高於往年。壓電平台在製程微縮化中扮演重要角色,其微動,高精度等特性,可以協助製程設備能夠檢測出較於以往更微小的特徵尺寸。

Aerotech全新系列的QNP-XY壓電奈米定位平台,能提供最高的共振頻率和剛性;高達解析度0.15nm、線性度0.007%、及高重複性2 nm,可符合最嚴峻的應用要求,從顯微鏡術到光學校準;其行程範圍為從100µm到600µm。搭配Aerotech的Q系列控制器與驅動器使用時,該系列平台表現出次奈米定位解析度和定位穩定性,甚至可以同步控制伺符與壓電平台,達到提升製程良率的目標。

Aerotech於本屆台北國際半導體展中,將展出各式先進運動控制平台系統,提供台灣半導體業者與設備業者最新的技術資訊,屆時將有應用工程師現場說明這些設備之特性,並可商討個別專案細節。Aerotech於半導體展之攤位號碼為:N0580。

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