美日大廠NF3供給增加遲緩　南韓廠商OCI Materials趁勝追擊　積極擴增產能

2011/04/28-大尺寸FPD-

黃銘章

三氟化氮(NF3)是一種溫室氣體，但也是半導體及TFT LCD生產製程中重要的工業用氣體，由於其具備清潔化學氣相沉積(CVD)製程以及乾蝕刻(Dry Etching)製程矽化物的特性，而成為目前半導體及面板產業關鍵的特殊氣體。由於半導體晶片及面板...

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南韓OCI AMOLED 太陽能電池三氟化氮

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