日本擴大管制半導體設備出口 納管SEM及ALD趨嚴對中國影響較大
日本自2024年9月起擴大管制半導體前段製程用微影、薄膜沉積等設備出口,並納管掃描型電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope;SEM)、量子電腦及相關晶片。DIGI...
- 2024年9月日本第二波半導體設備出口管制 追加納管SEM及先進技術
- 日本管制半導體設備出口 2024年輸往中國的金額仍將創高
- 日本於半導體前段製程設備供應扮演重要角色 出口管制將牽動中國半導體布局
- 日廠是全球半導體成熟製程用微影設備重要供應來源
- 日本擴大管制微影設備出口 有意防止中國運用DUV重覆曝光技術實現先進製程生產
- 擴大管制半導體薄膜沉積設備 日本納管無電鍍技術並去除CVD模糊規範
- 日本擴大管制ALD設備出口 去除模糊規範且列管條件更嚴格
- 日本擴大管制化合物半導體薄膜沉積設備出口 不利中國發展EV上游技術
- 日本納管掃描型電子顯微鏡 恐影響日立先端科技營收表現
- 日美系業者為全球掃描型電子顯微鏡主要供應來源
- 日本納管極低溫CMOS 防止用於量子電腦
- 日本跟進美國納管具一定運算精度的量子電腦
- 日本管制SEM出口亦涵蓋相關程式 跟進美國納管GAAFET技術
- 結語:日本第二波先進半導體技術出口管制將更不利中國布局先進製程
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