自從台積電、三星電子(Samsung Electronics)先後順利量產第一代5奈米EUV製程後，半導體產業正準備推進3奈米以下節點，然而許多挑戰以及未知因素仍持續累積當中。
台積電、三星、英特爾向下推進3奈米EUV 雙重曝光製程現挑戰
EUV雙重曝光風險高 3奈米靜待high-NA新機2022試產成效
三星3奈米以下EUV雙重曝光製程準備好了嗎？光搶機器無濟於事
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