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康耐視

改善製程成本 默克推出全新環保光阻去除劑

  • 陳玉娟

半導體材料大廠默克(Merck)正式宣布推出用於微影製程的全新系列環保化學品「AZ Remover 880」,此光阻去除劑採用全新配方、非基於會危害環境的NMP化學品系列中的...

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