EUV前進5奈米仍有諸多挑戰
- 涂翠珊／綜合報導
極紫外光微影(EUV)技術即將正式投入生產，但面對預計在2020年登場的5奈米製程，EUV仍有許多挑戰需要克服。當比利時微電子研究 中心(IMEC)嘗試將EUV引進5奈米製程時，他們注意到的缺陷超出了預期。所幸這些問題都有希望獲得改善。
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