台積電、三星、英特爾向下推進3奈米EUV 雙重曝光製程現挑戰
- 梁燕蕙／綜合報導
自從台積電、三星電子(Samsung Electronics)先後順利量產第一代5奈米EUV製程後，半導體產業正準備推進3奈米以下節點，下一階段EUV微影技術邁進；然而許多挑戰以及未知因素仍持續累積當中。
在研發方面，各相關業者正積極開...
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線：
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字
