三星傳2023年EUV製程將大量投入光罩護膜
- 林瑜淳／綜合外電
三星電子(Samsung Electronics)傳出2023年在半導體極紫外光(EUV)製程使用光罩護膜(pellicle)，建立大量生產體系。南韓業界認為三星應會依照ASML的建議選擇光罩護膜廠牌，避免因光罩護膜造成故障。 據韓媒The Elec報導，三星預計2...
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