分散風險 三星傳9月量產1z DRAM、EUV製程11月導入
- 林瑜淳／綜合報導
極紫外光(EUV)技術可讓半導體曝光製程的微影成形簡化，有助於業者降低生產成本。三星電子(Samsung Electronics)先前已開始將EUV曝光技術應用在晶圓代工量產，現在傳出DRAM產線也預定在2019年底導入EUV曝光技術，為EUV導入記憶體製...
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