分散風險 三星傳9月量產1z DRAM、EUV製程11月導入
- 林瑜淳/綜合報導
極紫外光(EUV)技術可讓半導體曝光製程的微影成形簡化,有助於業者降低生產成本。三星電子(Samsung Electronics)先前已開始將EUV曝光技術應用在晶圓代工量產,現在傳出DRAM產線也預定在2019年底導入EUV曝光技術,為EUV導入記憶體製...
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線:
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字