盛美新清洗設備問世 降低硫酸廢液排放
- 何致中／台北
美系設備廠盛美半導體宣布新款環境友善、低成本、高效益高效的先進晶圓清洗設備進入全球商用化階段，其Ultra C Tahoe設備清洗效果可媲美單片晶圓清洗，而硫酸消耗量僅為其數分之一，據了解，目前設備產品線已經打入中國大陸、韓系業者供應鏈。
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