大日本印刷完成5奈米光罩量產 與IMEC研發3奈米
- 江仁傑／綜合報導
大日本印刷(DNP)宣布，針對半導體極紫外光(EUV) 5奈米製程的光罩(Photomask)量產工程，已經研發完成。此外，大日本印刷也與比利時的研發機構Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC)，正在共同研發3奈米以下...
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