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Mentor助CIC建立矽光子設計流程標準

  • 吳冠儀台北

Mentor,a Siemens business和 Luceda Photonics正與台灣的國家實驗研究院國家晶片系統設計中心(CIC)合作,Mentor的Tanner矽光子設計與布局工具將作為此流程的基礎,建立設計流程的全國標準。

Mentor與Luceda已為矽光子的開發建立了一個強韌、創新的設計流程,矽光子是前景看好且快速興起的技術,它利用光來取代電,以便能更快速地在整個IC中傳輸和處理數據。

以Mentor的Tanner L-Edit Photonics為基礎,可為先進矽光子IC的開發提供經過驗證和高度可靠的平台。這套解決方案亦整合了Luceda的IPKISS.eda技術,可支援光子模擬以及大型光子元件的創建與驗證。針對先進矽光子的驗證,此方案採用了被業界公認為驗證「黃金標準」的Mentor Calibre nmDRC與nmLVS技術。

國家實驗研究院國家晶片系統設計中心主任葉文冠博士表示,CIC感謝Mentor和Luceda為具策略性重要意義的矽光子IC市場開發此基礎設計流程所做的貢獻。此一高度可靠的技術將成為台灣及其他地區IC設計人員的重要基石。

Mentor ICDS事業群總經理Greg Lebsack表示,Mentor很高興與CIC分享最新的光子設計實現流程,以協助台灣和整個亞洲地區建立一個強大的矽光子IC設計生態系統。藉由與CIC合作,期望能將此先進的設計流程提供給更廣泛的產業和學術界使用。


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