新思科技客製化平台通過台積電認證

新思科技近日宣布其數位與客製化設計平台已通過台積電最先進極紫外光微影(extreme-ultra-violate；EUV)5奈米製程技術的認證。此項認證乃植基於雙方在EUV製程上多年來的廣泛合作，進而提供高度優化的設計解決方案，加速新一代設計的發展。

Design Compiler Graphical synthesis工具經過嚴格的5奈米實施驗證，並在時序、面積、功耗和congestion等方面與IC Compiler II布局繞線呈現相關性。透過通路銅柱優化的增強、多位元記憶庫存、腳連結優化等創新技術，Design Compiler Graphical 5奈米功能可提升效能、功耗與面積的表現。

實現高設計密度的關鍵在於IC Compiler II中的增強功能，可在優化過程中直接處理複雜、多變量及二維元件擺置，同時將下游的可繞線度及整體的設計收斂達到最大。

新思科技PrimeTime時序分析與簽核解決方案中的參數晶片內變異分析經強化後，能準確地掌握因製程微縮與近臨界區超低功耗的節能運作所增加的非線性變化。此外，物理感知ECO經擴充後能支援更複雜的布局與電網設計規則，以改善雍塞、布局，並提升腳連結感知。

台積電設計建構行銷處資深處長Suk Lee表示，5奈米EUV製程技術是台積電的核心里程碑，它將持續擴展在業界的最佳製程技術領導地位。與新思科技就流程的簡化與結果效率的提升保持密切合作，讓雙方共同的客戶可以採用此新製程技術與新思科技設計平台。這項合作關係將為高效能運算與超低功耗行動應用帶來最大的process entitlement，也期待雙方能就下一代節點持續進行合作。

新思科技行銷副總裁Michael Jackson說道，與台積電的合作，讓共同客戶能充分利用台積電5奈米製程技術及新思科技的設計平台。雙方的合作也加速客戶取得5奈米製程技術，協助讓當前最高密度的設計快速進入量產，並具備同級最佳的功耗、效能與面積表現。