Canon慶祝日本首台半導體曝光機PPC-1上市50周年

Canon於1970年成功生產了日本首台半導體曝光機「PPC-1」，因此2020年可說是Canon正式跨足半導體曝光機領域的50周年。半導體晶片從智慧型手機到汽車等多領域被廣泛應用，半導體曝光機在器件的製程中可說是不可或缺。隨著數位技術迅速發展的同時，Canon的半導體曝光機也不斷升級。

Canon曝光機的歷史始於對相機鏡頭技術的高度應用。奠基於20世紀60年代中期在相機鏡頭開發所累積的光學技術，Canon研發出用於光罩製造的高解析度鏡頭。此後，為了進一步擴大業務範圍，Canon針對晶圓的IC製造，開始半導體曝光機的研發，並於1970年成功發售日本首台半導體曝光機「PPC-1」，正式跨足半導體曝光機領域。

Canon於1975年上市的「FPA-141F」曝光機實現了全球首次1微米以下的曝光，此項技術作為「重要科學技術歷史資料(未來技術遺產)」，於2010年被日本國立科學博物館產業技術歷史資料資訊中心收錄。

目前Canon的曝光機包括 i 線曝光機和KrF曝光機產品線，並根據時代的需求不斷擴大應用範圍。未來，Canon將繼續擴充半導體曝光機的產品陣容和功能，以支援各種尺寸和材料的晶圓以及下一代封裝技術。此外，在高科技發展領域為滿足電路圖案進一步微細化的需求，Canon也致力於奈米壓印半導體製造設備的研發，使其能應用於大規模生產。

自1986年起，Canon將半導體曝光機技術應用於平板顯示器製造領域，開始研發、製造和銷售平板顯示曝光設備。Canon未來也將持續提高清晰度和生產效率，以滿足液晶和OLED顯示裝置的製造需求。Canon 2020年歡慶投入半導體領域邁向50周年，今後將持續進化曝光設備技術，為科技產業發展做出貢獻。