汎銓擴充ALD產能　優先服務忠實客戶

董事長柳紀綸(中)與工程研發團隊。

半導體材料分析業「隱形冠軍」汎銓科技近期完成增資，在備齊資源後，全力擴展業務版圖。汎銓重視分析技術研發，在MA/FA服務擁有多項領先分析業界的技術工法，自行研發的ALD原子層沉積(Atomic Layer Deposition)真空鍍膜技術，包含設備開發及特殊樣品製備工法，均獨步業界。

ALD真空鍍膜用在MA/FA的樣品製備，可保護樣品維持原貌，避免人為因素增加缺陷，是半導體大廠在每一代製程微縮進行研發過程中所不可或缺。在最先進的5nm、3nm製程研發，EUV光阻、Low K等關鍵材料，由於材料特性，以電子顯微鏡技術觀察材料的微結構及成分時，材料容易產生人為缺陷甚至變形、倒塌，導致製程研發人員誤判，走錯研發方向。

汎銓自行研發ALD真空鍍膜技術，可以讓樣品形成盔甲保護，避免人為缺陷，呈現真實的材料微結構與成分。此技術廣泛應用於MA/FA多項分析，展現絕對領先的優勢。汎銓表示，協助忠實的客戶在激烈的競爭中勝出，也是成長的動力。因應產能供不應求，除了新竹、台南、南京廠持續擴充ALD真空鍍膜設備及產能，也祭出「忠實客戶優先」的策略，全部案件委託汎銓的客戶優先享有產能，能在研發競爭中更取得優勢。