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Canon慶祝日本首台半導體曝光機PPC-1上市50周年

  • 周建勳/台北

Canon於1970年成功生產了日本首台半導體曝光機「PPC-1」,因此2020年可說是Canon正式跨足半導體曝光機領域的50周年。半導體晶片從智慧型手機到汽車等多領域被廣泛應用,半導體曝光機在器件的製程中可說是不可或缺。隨著數位技術迅速發展的同時,Canon的半導體曝光機也不斷升級。

Canon曝光機的歷史始於對相機鏡頭技術的高度應用。奠基於20世紀60年代中期在相機鏡頭開發所累積的光學技術,Canon研發出用於光罩製造的高解析度鏡頭。此後,為了進一步擴大業務範圍,Canon針對晶圓的IC製造,開始半導體曝光機的研發,並於1970年成功發售日本首台半導體曝光機「PPC-1」,正式跨足半導體曝光機領域。

Canon 首台日本生產之半導體曝光機「PPC-1」

Canon於1975年上市的「FPA-141F」曝光機實現了全球首次1微米以下的曝光,此項技術作為「重要科學技術歷史資料(未來技術遺產)」,於2010年被日本國立科學博物館產業技術歷史資料資訊中心收錄。

目前Canon的曝光機包括 i 線曝光機和KrF曝光機產品線,並根據時代的需求不斷擴大應用範圍。未來,Canon將繼續擴充半導體曝光機的產品陣容和功能,以支援各種尺寸和材料的晶圓以及下一代封裝技術。此外,在高科技發展領域為滿足電路圖案進一步微細化的需求,Canon也致力於奈米壓印半導體製造設備的研發,使其能應用於大規模生產。

自1986年起,Canon將半導體曝光機技術應用於平板顯示器製造領域,開始研發、製造和銷售平板顯示曝光設備。Canon未來也將持續提高清晰度和生產效率,以滿足液晶和OLED顯示裝置的製造需求。Canon 2020年歡慶投入半導體領域邁向50周年,今後將持續進化曝光設備技術,為科技產業發展做出貢獻。