盛美半導體設備發佈Ultra Furnace立式爐設備

盛美半導體設備，發布了立式爐設備(Ultra Furnace)為多種乾法製程應用開發的系統。立式爐設備優化後可實現高效能的低壓化學氣相沉積(LPCVD)應用，同時該設備平台還可延伸至氧化和退火，以及原子層沉積(ALD)等應用。此次的立式爐設備也展現了盛美中韓研發團隊為時兩年的合作成果。

盛美半導體設備董事長王暉表示，先進的技術節點帶來了持續的挑戰，這就要求設備供應商進行創新。而這種市場需求給盛美提供了重要的機會。不斷創新是盛美的DNA。發現了可以受益於我們技術的市場需求，所以就將技術延伸至該新的細分市場，在盛美已建立的濕法製程產品系列上增加了Ultra Furnace立式爐產品系列，這樣既可以為客戶的先進產品提供整體解決方案，同時又擴大了我們的市場商機。

沉積製程是指，在高溫下化學氣體在晶圓表面上反應形成氧化矽或者氮化矽膜層。Ultra Furnace立式爐系統可用於批量處理多至100片12英吋(300毫米)晶圓。創新的系統設計使用了新開發的硬體，提高了耐用性，同時搭載了盛美成熟的軟體技術、專有的控制系統和演算法。這些特點保證了設備能穩定地控制製程壓力、氣體流量和溫度。

目前盛美Ultra Furnace立式爐主要面向LPCVD製程市場，後續只需對其元件和布局進行一些局部變更，就可滿足其他目標應用需求。85%左右的硬體設定可保持不變，所以可有效地實現面向新應用的變動。

盛美半導體Ultra Furnace立式爐目標市場以中國為起點，逐步向南韓和台灣市場推進。盛美已於2020年初，向中國一家重要的邏輯客戶的製造工廠交付了第一台Ultra Furnace。該設備用於LPCVD，目前已經在用戶端安裝並進行驗證。