Infinitesima創新量測設備先驅者 協助半導體製程控制的挑戰

Metron3D專為高吞吐量半導體製造業設計的in-line量測設備，Metron3D結合原子力顯微鏡的成熟優勢與幾項全新的發明，可以將量測速度提高至少100倍，並將探針頭壽命提高了10倍。Infinitesima

2021年12月6號，位於英國的阿賓頓Infinitesima Corporation正式發布Metron3D。

Metron3D這是一款專為高吞吐量半導體製造業而設計的in-line量測設備。Metron3D將原子力顯微鏡的成熟優勢與幾項全新的發明相結合，這些發明將量測速度提高了至少100倍，並將探針頭壽命提高了10倍。Metron3D具備高速度運行，同時保持非常高的精度，這將使晶片製造商首次能夠在產線端In-line使用高精確度量測及檢測應用。

Metron3D的測量模組Rapid Probe Metrology(RPM)，被整合到由知名供應商打造的現有解決方案，以確保設備在產線端的可靠性。Metron3D系統提供的關鍵量測及檢測功能，能夠最大化提高產能並且降低晶圓成本，藉此推進半導體製程的控制。隨著半導體尺寸縮小和晶片架構變得複雜，Metron3D在CMP(局部和長距離)、EUV光膜和邏輯元件前端製程分析等領域提供了測量優勢。

Metron3D系統中擁有探針庫，裏頭包含數十個探針及探針專用加載裝置，在外加預測探針壽命的複雜軟體，讓Metron3D即使在如CMP這類需大面積測量的任務也能保證連續運行。另外，在圖像識別中，Metron3D將全局對準系統與高度精確的晶圓台相互結合，確保能對目標結構進行可靠及重複性的測量。

Infinitesima CEO Peter Jenkins表示，「摩爾定律」正在歷經一個轉折過渡到3D製程整合，而Infinitesima尋求通過這種高度創新的產品徹底改變過去的探針量測系統，來實現具有埃級解析度和精度的In-line 3D製程控制。

另外Peter Jenkins補充道，Metron3D是創新量測設備道路上的先驅者，將有助於解決即將到來的製程控制挑戰，例如高NA EUV、新材料和3D晶片架構。更多關於Metron3D的資訊請至網站。