EVG與Inkron合作開發光學元件材料與微影製程技術

採用Inkron先進樹脂的EVG奈米壓印微影技術所壓印出的光學結構

微機電系統(MEMS)、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之領導廠商EV Group(EVG)，日前宣布和致力於高低折射率塗層材料的製造商Inkron的合作夥伴關係。兩間公司將為開發和生產高品質繞射光學元件(DOE)結構提供優化的製程和相符的高折射材料。這些DOE結構包括用於擴增實境、混合實境、虛擬實境(AR/ MR/ VR)元件的波導管，以及在車用、消費性電子和商業應用中的先進光學感測元件，如光束分離器和光束擴散器。

此合作夥伴關係在位於EVG總部奧地利St. Florian的NILPhotonics技術處理中心內展開。EVG的NILPhotonics技術處理中心為NIL供應鏈中的客戶和合作夥伴提供一個開放式的創新平台，其目的為縮短新創光學元件及其應用的開發週期和產品上市時間。因應該協議的一部分，Inkron為自己的研發機構購買了EVG 7200 NIL系統，以加速新光學材料的開發和驗證。EVG 7200系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料經驗，能夠大規模量產小至30 nm的微米和奈米級結構，其特色還包含只需用到極小的脫膜力道同時能維持結構不至變形，快速的高功率曝光和平順的脫模。

EVG技術開發和IP總監Markus Wimplinger表示：「商用和消費者市場對晶圓級光學元件和感測器的需求正以驚人的速度成長，催生所需的原物料及製程的優化，以達到市場所需的效能及產能。Inkron在光學材料方面擁有廣泛的專業知識，並且是高折射和低折射塗層材料的領先製造商之一，Inkron能成為與我們在NILPhotonics技術處理中心合作的理想夥伴。這樣的合作能使EVG進一步探索和擴展我們NIL技術的應用和特性，而得以為下一世代光學元件和其終端產品提供可用於量產的解決方案。」

光學元件和組件的材料特性，對已封裝的光學元件整體效能及大小有極大影響。舉例來說，較高的折射率(RI≧1.9以上)可優化光萃取效能，進而顯著提升波導管可見視野，提供給AR/VR頭戴顯示器更逼真的體驗。高折射率材料還可以提供更高的光密度，使更有效率的繞射光學用於光束分離器(例如臉部辨識的感測器)，如此未來的光學元件就可變得更小。高折射材料的附加優化可以改善膜的透明度，並減少霧度和散射，進而提供更好的對比度；而改善的樹脂穩定性可以滿足更嚴苛的熱要求，如車用方面的需求。

為NIL製程而調配的高折射率材料，有助於確保NIL製程投入量產。NIL是一種已被驗證過的光學元件製造方法，因為它能夠在保有其經濟效益下，於量產中做出奈米級的結構，而且並不受限於特別的尺寸、形狀和複雜性。