EUV微影的光罩3D效應問題
- 劉慧蘭／綜合報導
極紫外光(EUV)微影即將投入生產，EUV光罩產生的3D效應問題也開始受到半導體產業的關注。EUV使用以鉭(Ta)為基礎的吸波材多層結構光罩，當極紫外光以6度角射入光罩時，反射光可能會在晶圓上形成陰影或因光罩引起的成像像差，導致不必要的焦點及圖案移位的光罩...
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