美日大廠NF3供給增加遲緩 南韓廠商OCI Materials趁勝追擊 積極擴增產能
三氟化氮(NF3)是一種溫室氣體，但也是半導體及TFT LCD生產製程中重要的工業用氣體，由於其具備清潔化學氣相沉積(CVD)製程以及乾蝕刻(Dry Etching)製程矽化物的特性，而成為目前半導體及面板產業關鍵的特殊氣體。
內文目錄
NF3為半導體及平面顯示器生產製程的重要工業氣體- 2010年日本廠商仍佔全球NF3約3分之1產能比重
- 南韓廠商OCI Materials在NF3產能擴充最積極
- AMOLED及太陽能電池將進一步帶動NF3需求
- 結語
圖表目錄
- 二氧化碳及全氟碳化物(PFCs)等溫室氣體存活年限比較
- 2010年各NF3廠商實際產能全球比重比較
- 2006至2010年OCI Materials營收與營業利益率變化比較
- 2013年全球NF3實際產能廠商別比重預測
- 2010年OCI Materials與主要競爭公司營業利益率比較
共 5 個圖表
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