Advanced Node IC Design
西門子線上研討會
洞察先機．破解先進製程最新挑戰
洞察先機．破解先進製程最新挑戰
2021年台灣科技產業開闢出一片新戰場，帶動了5G、AI、HPC、汽車電子、機器學習及物聯網等技術與應用的市場需求快速起飛，使得全球半導體晶片供不應求，因此如何提升IC設計、IC製造與效能，就成為當前最重要的課題！
Siemens EDA持續致力於發展電子設計自動化技術，從晶片設計端一路延伸至系統產品端，提供包括晶片分析除錯、良率提升、縮短驗證週期、模擬、自動檢查、靜態分析、汽車安全架構、汽車製造測試、電源功率分析與優化等等完整的解決方案，協助客戶提高設計品質，加速產品導入市場,以利客戶們贏得最佳商機利益。
2022年 5月19日Siemens EDA 線上研討會將以“洞察先機 破解先進製程最新挑戰”為主題，將有多位專業講師進行線上分享電子設計困局及破解之道，助力產業界應對日益複雜的電子設計和創新的挑戰。
隨著對功率的要求已近乎於對工作頻率要求般嚴苛，在晶片設計與實作上需要更優先考慮功耗。
晶片設計師需要在降低動態功率及漏電，與維持工作頻率及其他先進製程的挑戰上做出平衡。有許多設計手法可以用來設計低功耗電路，但如何找出最佳的實作方式著實是個挑戰。
Bob是西門子EDA資深應用工程師，負責Aprisa的技術銷售與支援。透過實體設計的知識與對產品的熟稔，Bob已協助客戶利用Aprisa完成具高度競爭力產品設計定案及建立多樣流程以提高實體設計效率。
Layout設計人員和CAD工程師使用Calibre RealTime平台，可加速DRC收斂過程，從而將其tapeout時程縮短了數周時間以利趕上市場需求。 Calibre RealTime Custom介面可在客製化和類比/混合訊號(AMS)設計流程中，啟用設計內Signoff品質的Calibre DRC，其工具內建檢查設定檔的強大功能，可顯著減少DRC檢查的執行次數，不僅加快DRC執行，而且還減少了產生的相關DRC結果，使DRC除錯變得更容易也更快速。使得估計的整體生產率提高2至4倍，從而將其設計的tapeout時程縮短了數周時間並趕上市場需求。 Calibre RealTime Digital介面使用於P&R環境，工程師能夠花費更少的時間來修復DRC錯誤且其使用的引擎與傳統實體驗證流程的Calibre nmDRC平台引擎相同，因此驗證設計結果將滿足所有製造的要求，他們可以專注於生產高質量、優化的設計，滿足越來越嚴格的生產計劃，從而提供更多時間來創建如期上市的創新且高質量設計。
Peter為西門子EDA Calibre的AE，在業界有多年電路開發設計及實體驗證等實務經驗，協助研發部門導入各項可靠度及標準設計驗證流程，加入Siemens EDA負責Calibre產品，提供客戶全方位技術支援與完整教育訓練。
時至今日，高品質的IP設計在矽晶片生產流程中是一個關鍵要素，其有助於加快設計週期，並使得複雜的矽晶片設計能夠在合理的時間內完成。由於 IP擁有多個不同階段的設計資料內容必須驗證(邏輯、實體、時序、SPICE 等)，因此強健的IP QA方法是實現矽晶片設計生產製造成功的必要條件之一。在本次會議中，將討論建立健全IP QA解決方案來滿足設計需求，以及利用Solido Crosscheck專業的IP QA架構來驗證您的IP所帶來的優勢 。
Jason在EDA產業累積了超過10年的經驗，相當熟悉類比模擬器與電腦輔助設計。在Siemens EDA擔任顧問，目前負責支援類比混合訊號模擬器、變化感知設計，以及特性化軟體。Jason於2008年在元智大學取得了電腦科學碩士學位。
DRC/ LVS Recon適用於在設計開發初期，Layout仍雜亂無章的階段，提供一個能不改動原本的規則檢查的前提下，達到節省時間及記憶體的方法。透過Calibre引擎對於規則檢查的智能選擇，使用者能及早得到回報的檢查結果，縮短除錯檢視的週期。利用省下的時間，將能更有效率地加速開發流程。
任職於Calibre軟體應用相關工作超過10年，結合晶圓代工廠與IC設計廠商於先進製程的實務經驗，Frances在Siemens EDA擔任資深應用工程師，負責推廣Calibre相關產品，並提供技術支援及擔任課程講師。
演進到先進製程，設計sign-off不再只考慮DRC與LVS結果，設計端更需考量製造技術帶來的影響。Calibre DFM套件工具針對隨機性，系統性與參數性的良率損失，提供了廣泛的良率分析解決方案。Calibre YieldEnhancer以及Calibre DesignEnhancer能夠將更多製造端的資訊傳遞給上游的設計工程師，賦予他們在自動化環境下更有能力設計出良率更好以及可靠度更高的產品。
Oland為Siemens EDA資深應用工程師，負責提供多項Calibre產品技術支援。在EDA產業與晶圓代工廠累積了超過10年的工作與實務經驗。
Michael Buehler-Garcia身為Siemens EDA的Calibre Design Solutions組織的產品管理副總裁。他負責管理Calibre Design
Solutions所有產品項目的全部管理業務，包括產品定義和發佈、產品發展藍圖、戰略定位、生態系統合作夥伴關係，以及與Siemens EDA和其他第三方解決方案內部所有EDA流程的整合。
Michael Buehler-Garcia在併購DFM產品供應商Ponte Solutions時，加入Siemens EDA的工作團隊。任職於Ponte Solutions之前，曾在iRoC Technologies、PDF
Solutions和 Chartered Semiconductor(現為 GLOBALFOUNRIES)，以及Cadence Design
Systems擔任資深管理職位，還曾積極參與合併和收購多家EDA新創公司的行動。Michael Buehler-Garcia的第一份工作是在Motorola公司的政府電子產品團隊和ASIC半導體部門擔任技術職位。他擁有美國亞利桑那州立大學機械工程和替代能源系統學士學位。