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上刊時間:2004/03/03~2026-10/23
Green Tech
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Green Tech
記憶體廠減碳路徑分化　國際三大廠受限先進製程擴產　台廠面臨綠電取得瓶頸
DIGITIMES觀察，記憶體國際三大廠與台系業者減碳面臨不同壓力，前者受先進製程擴產推升製程氣體與用電需求，後者則因碳排放量集中於外購電力，減碳更受綠電取得限制。
王振緯
2026-10-13
亞洲供應鏈
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亞洲供應鏈
AI載板規格升級推高製程設備需求　關鍵機台供給趨緊
DIGITIMES分析，AI加速器持續朝更大晶片、更高整合度架構發展，整體ABF載板需求除了隨出貨量成長外，單顆晶片所需要的載板面積、層數與製程複雜度也同步提高。隨著載板往高層數與細線路演進，壓合、鑽孔、鍍銅、曝光與檢測等製程，不僅需要更多加工次數，也對設備精度...
吳孟倫
2026-10-07
HPC關鍵零組件
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HPC關鍵零組件
AI高速互連推升CCL升級　PTFE採Hybrid形式將成下世代低損材料新選項
DIGITIMES觀察，AI伺服器的高速訊號傳輸需求，導致訊號的「通道損耗預算」持續收緊，以致於既有樹脂系統面臨更嚴苛的損耗與加工平衡，而開發新材料方可獲根本性突破。PTFE因具備極低介電損耗與穩定高頻的特性，而成為下一世代高速CCL...
陳靖元
2026-10-05
智慧穿戴
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智慧穿戴
展會觀察：CIOE 2026　三大Micro LED顏色方案滿足多元需求　AR光波導成本續降
DIGITIMES觀察，2026年中國國際光電博覽會(CIOE)上，AR眼鏡用Micro LED光機在單綠色、雙色、全彩皆有進展，包含單綠色光機體積縮小至0.05~0.07立方公分，有利品牌業者設計更接近一般眼鏡外型的AR眼鏡，雙色Micro LED則可呈現如...
方覺民
2026-10-05
IC製造
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IC製造
High NA EUV將迎華麗轉身　全幅視野與供應鏈同時升級成2033年EUV設備關鍵要素
DIGITIMES觀察，曝光技術是先進製程持續微縮的核心驅動力。當Low-NA EUV逐漸逼近單次曝光極限，0.55 NA的High-NA EUV將解析度由13奈米推進至8奈米，卻也帶來景深縮小、曝光視野減半與成本上升等取捨。...
黃健治
2026-10-01
顯示科技與應用
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顯示科技與應用
展會觀察：SEMICON Taiwan 2026　展現FOPLP與Micro LED光通訊技術發展
DIGITIMES觀察，顯示業者因發現AI產業蓬勃發展帶來的商機，逐漸投入相關技術，尤其可透過既有產業優勢持續發展的先進封裝與光通訊技術，並積極參與SEMICON Taiwan 2026，期待更進一步商業化落地。其中，在先進封裝方面，FOPLP事業導入量產...
楊仁杰
2026-09-18
DIGITIMES Insights
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DIGITIMES Insights
高階AI晶片的升級將推升載板製程負荷　影響有效供給的關鍵由上游材料向設備端延伸
DIGITIMES觀察，AI加速器與伺服器CPU運算效能持續提升，除了晶片本身的運算核心與I/O數量增加外，隨著HBM、高速SerDes及Chiplet等元件整合程度提高，封裝內需要處理的訊號傳輸...
吳孟倫
2026-09-17
DIGITIMES Insights
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DIGITIMES Insights
High NA EUV商轉進程仍取決於商業成本考量　Low NA多重曝光短期內仍是主流選擇
根據ASML於SEMICON Taiwan 2026揭露的數據，截至2026年9月，全球已有10台High NA EUV系統於4家客戶端投入運作，另有3台處於出貨或安裝階段，累計曝光量超過135萬片晶圓。...
黃健治
2026-09-08
次世代行動通訊
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次世代行動通訊
光通訊的半導體化　矽光模組面臨上游瓶頸
DIGITIMES觀察，光模組正由一門光學製程走向半導體製程，架構主流已由分立元件轉為矽光整合，但矽本身不發光，光源仍須外掛InP雷射，瓶頸因而由元件難度上移至材料供...
許凱崴
2026-08-27
次世代行動通訊
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次世代行動通訊
InP產能受限　雷射光源成為1.6T、3.2T光模組的出貨瓶頸
DIGITIMES觀察，AI高速光模組能否順利放量，最大的變數之一可能是磷化銦(InP)基板的供應穩定性。這種化合物半導體是電吸收調變雷射(Electro-Absorption Modulate...
許凱崴
2026-07-16
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