三星擱置High-NA EUV技術 恐落後英特爾2~3年 智慧應用 影音
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三星擱置High-NA EUV技術 恐落後英特爾2~3年

  • 江承諭綜合報導

英特爾(Intel)日前完成業界首台High-NA極紫外光(EUV)曝光設備組裝,宣布最快2025年起導入1奈米級半導體生產。南韓業界認為以三星電子(Samsung Electronics)當前規畫,若英特爾量產計畫如期進行,High-NA EUV使用恐出現2...

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