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應材挑戰半導體光罩日廠寡佔 南韓EUV材料難擺脫日本進口

  • 杜振宇

全球最大半導體設備商應用材料(Applied Materials)正加速開發極紫外光(EUV)製程用空白光罩(blank mask),挑戰現階段日廠寡佔半導體用光罩市場的局面。相較之下,南韓...

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