EUV微影技術世代逐步來臨 高品質光罩檢測需求同步看增 智慧應用 影音
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EUV微影技術世代逐步來臨 高品質光罩檢測需求同步看增

  • 何致中台北

隨著半導體晶圓製造7/5/3奈米先進製程推進如火如荼,市場估計約2020年可望就有導入極紫外光(EUV)微影技術之半導體應用產品問世,台積電、三星電子(Samsung Electronics)、英特爾(Intel)等龍頭大廠將在2018~2019年陸續進入EUV微影...

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