製程持續推進 FinFET量測挑戰大增
- 劉慧蘭／綜合報導
10/7奈米及更先進的半導體製程面臨諸多挑戰，其中一項就是量測方法(metrology)。量測是測量並將結構特徵化的一種技術，用以找出元件和製程問題，確保良率。28奈米以上的製程因電晶體是平面的，特徵尺寸也比較大，量測不成問題，然而每推進一個節點，量測就變得更加...
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