EUV正式面世後仍將面臨諸多挑戰
- 涂翠珊／綜合報導
2019年將有30台艾司摩爾(ASML)極紫外光微影(EUV)陸續出貨，這也代表這項歷時數十年、耗資數十億美元研發的技術，即將正式迎向舞台中央，然而稼動率(uptime)、瑕疵、線邊緣粗糙度(LER)以及製程流程的最佳化，都是EUV尚待克服的難題。
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