半導體業界投入EUV微影技術改善研發
- 茅堍／綜合外電
儘管極紫外光(EUV)微影(lithography)技術與商業應用都還在發展中，但隨著浸潤式微影技術面臨微縮極限，使得製程相對複雜且昂貴的EUV微影成為半導體製程實現持續微縮不可或缺關鍵。然而由於現有EUV微影技術具有如會造成昂貴材料浪費、效率相對較低，以及在...
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