三星斥資1.1兆韓元導入High NA EUV 啟動先進製程絕地反攻
- 陳玟靜／綜合報導
三星電子（Samsung Electronics）傳將於2026年上半前投入約1.1兆韓元（約7.75億美元），引進兩台ASML最新一代極紫外光（EUV）微影設備，亦即高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）機台。此舉也被業界認為，是三星正式啟動技術反攻...
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線：
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字
