台積電、三星、英特爾向下推進3奈米EUV 雙重曝光製程現挑戰
- 梁燕蕙/綜合報導
自從台積電、三星電子(Samsung Electronics)先後順利量產第一代5奈米EUV製程後,半導體產業正準備推進3奈米以下節點,下一階段EUV微影技術邁進;然而許多挑戰以及未知因素仍持續累積當中。
在研發方面,各相關業者正積極開...
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