英特爾暗示EUV不再是唯一解方？ 台積心裡有數、三星借鏡
- 梁燕蕙／綜合報導
近期外媒傳出一位匿名英特爾（Intel）高層發表一個頗具爭議的觀點：未來電晶體設計，如GAAFET架構和CFET架構，可能降低晶片製造對先進微影設備的依賴，尤以EUV曝光機為最。此一觀點，無疑挑戰當前先進晶片製造的核心典範。
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