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DRAM製程進入EUV時代 三星擴增設備拉開技術差距

  • 鄒佩芳綜合報導

隨著半導體製程不斷推進,相關業者積極確保極紫外光(EUV)曝光設備,競爭益趨激烈。2021年三星電子(Samsung Electronics)將增加DRAM製程上使用的EUV設備,擴大在...

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