先進製程對AMC微污染超敏感 化學濾網需求湧現 智慧應用 影音
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先進製程對AMC微污染超敏感 化學濾網需求湧現

  • 陳玉娟新竹

在先進製程線寬線徑愈來愈窄之下,懸浮氣態污染物(AMC)對於製程良率的影響持續增加,因先進製程對於AMC微污染十分敏感,當半導體製程持續演進,將對AMC控制有更多的需求。

濾能表示,AMC氣體分子的直徑約在0.3~1.5奈米,在5...

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