ASML EUV已無法追上 南韓半導體業界盼以X光曝光技術逆轉
- 江承諭／首爾
隨著全球半導體技術競爭加劇，加上牽涉國家戰略的保護主義趨勢，南韓業界強調設備本土化的重要性。特別是當前完全依賴荷蘭ASML的EUV曝光設備的處境，認為必須投入尚在研發初期的「X光曝光技術」，確保半導體產業長期競爭力，並擺脫對單一供應商的技術依賴。
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