業界對引進EUV最佳時機仍未有定論
- 涂翠珊／綜合報導
極紫外光(EUV)微影技術的出現，為當前的IC產業迎來了一個充滿挑戰的過渡階段。不論是單一曝光(single patterning)或是多重曝光(multiple patterning)，晶片廠商取捨的關鍵，仍在於哪種作法較符合經濟效益。即使EUV在技術層面上已經就緒...
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