華為聯手新凱來 申請先進晶片製造專利
- 茅堍／綜合外電
為突破美國政府及其盟友在先進晶片製造技術與設備上的出口限制，華為聯手中國政府支持的設備業者新凱來，提交應用自對準四重圖案化（Self-Aligned Quadruple Patterning；SAQP）技術的先進晶片製造專利申請，有望在無須採用ASML極紫外光（...
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