三星High NA EUV測試傳捷報 特定製程時間可縮減60%
- 范維君／綜合報導
傳三星電子（Samsung Electronics）透過高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）微影設備，可將特定製程時間縮短60%，這項結果代表三星有望提升半導體生產效率，預期將High NA EUV用於2奈米以下製程。韓媒M...
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