華為AI晶片技術新布局 採碳化矽散熱專利曝光 智慧應用 影音
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華為AI晶片技術新布局 採碳化矽散熱專利曝光

  • 黃瓊文綜合報導

隨著AI晶片功率持續攀升,散熱瓶頸成為業界關注焦點。據中媒新浪財經、證券時報報導,近期在中國知識產權局,華為兩項關於最新散熱的專利曝光,且均涉及碳化矽(SiC)應用,包括《導熱組合物及其製備方法和應用》與《一種導熱吸波組合物及其應用》。

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