英特爾完成High-NA EUV驗收導入14A 同步推進2D場效電晶體技術
- 李佳翰／綜合報導
英特爾（Intel）宣布完成驗收測試業界首台具備0.55數值孔徑的商用High-NA EUV曝光機ASML Twinscan EXE:5200B，為14A製程奠定量產基礎。同時，也象徵High-NA EUV技術將由研發驗證邁入大規模量產（HVM）階段，每...
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