看好AI帶動CMP設備需求 荏原3年5億美元投資目標超越應材
- 范仁志／綜合外電
在全球化學機械研磨（CMP）設備市佔第2名的日本流體設備廠荏原製作所（Ebara），決定擴大半導體設備事業投資，將在2026~2028年進行超過800億日圓（約5億美元）設備投資，目標CMP設備市佔在2030年追上全球居冠的應用材料（Applied Mater...
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