南韓EUV需求成長超越台灣 雷射大廠：High-NA將成主流、未來兩年是關鍵
- 郭靜蓉／德國
生成式AI、高效能運算（HPC）與先進製程競賽持續升溫，帶動High-NA EUV光刻設備成為全球半導體設備產業下一波焦點。作為ASML EUV光源核心供應商，德國雷射大廠創浦（Trumpf）表示，目前正與ASML合作開發800瓦EUV光源，希望進...
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