不讓客戶為難 ASML披露Low NA EUV延伸至2031、High NA加速量產
- 梁燕蕙／綜合報導
ASML日前在2026年第1季財報會議上，除了證實記憶體晶片客戶的需求，可說是第1季業績超出預期的重要支撐，也進一步透露EUV曝光機分別在低數值孔徑（Low NA）與高數值孔徑（High NA）機種方面的最新路線圖。過去曾遭延後採...
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