全球最大半導體設備商應用材料(Applied Materials)正加速開發極紫外光(EUV)製程用空白光罩(blank mask),挑戰現階段日廠寡佔半導體用光罩市場的局面。相較之下,南韓於EUV相關材料自製則呈現停滯不前,尚難擺脫自日本進口。