1奈米以下Nanostack量產難度增 IBM：High NA EUV成關鍵
- 陳玉娟／台北
IBM率先發表全球首個1奈米以下Nanostack技術，但從研究走向量產，仍涉及材料、微影、熱管理與量子效應等多重挑戰。IBM指出，新材料導入一直是半導體產業最困難的問題之一，過去僅導入High-K Metal Gate新閘極介電材料，即耗費長達15年時間。
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